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锂电复合铜膜磁控溅射卷绕双面镀膜设备
锂电复合铜膜磁控溅射卷绕双面镀膜设备,用于在柔性基材(PET等)上离子源预清洗,附着层溅射,Cu金属层溅射,与公司已研发的薄膜电镀生产线密切对接。
真空非标PVD和CVD设备
真空非标PVD和CVD设备,根据用户工艺要求非标定制各类真空镀膜设备。
JCP 磁控镀膜系列
JCP 磁控镀膜系列用于在PET等柔性薄膜基底上沉积Cu、Al、Ti、Wu、Ge等金属膜。该系列设备最大镀膜幅宽1560mm,可镀最大卷径Φ600mm。
大型连续镀膜生产线
大型连续镀膜生产线,该镀膜生产线为卧式结构,可在太阳能硅片、玻璃等表面上镀制ITO、金属、非金属等各种材料。
真空蒸发连续卷绕镀膜设备
真空蒸发连续卷绕镀膜设备,卷绕速度800m/min,可镀幅宽1100~2500mm,最大卷绕速度1000m/min。产品系列有电阻蒸发、感应蒸发镀、硫化锌介质膜等设备。